这是1981年由美国多弧（Multi-Arc）公司开发的最新离子镀膜技术。主要特点是利用在真空条件下把性能优异的太空金属钛（我国有丰富资源）做成靶，用电弧方式直接产生等离子体，并在真空炉中通入高纯氮气，使钛离子和氮离子在电场作用下直接“打入”由各种基材制成的产品上，形成一层厚度约1微米结合力很强的氮化钛镀层，不仅外观金光闪闪而且耐磨耐蚀性能优异。从而大大提高该产品的使用价值与经济价值，例如SHARP录相机的钛表层磁鼓就是一例。这是一项可以在各种基材的产品上镀上特殊性能的化合物薄膜的新技术，有广泛应用前景。真空电弧离子镀有以下同个特点：
　　1、各种金属都可以制成靶在电弧作用下形成等离子体，同时在真空炉中通入不同气体从而开拓各种特殊性能的复合镀层、高级装饰镀层。
　　2、由于等离子体的绕射性好因而不论产品外形如何都能涂上均匀的膜层，因为以离子方式在电场作用下直接“打入”产品表层，故结合力特别强。
　　3、可以实现低温条件下的离子镀（小于200℃）故型料制品的电镀件也能采用此技术增值。